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微米技术是谁发明的？
1959年，著名物理学家、诺贝尔奖获得者理查德·费曼预言，人类可以用小的机器制做更小的机器，最后将变成根据人类意愿，逐个地排列原子，制造产品，这是关于纳米技术最早的梦想。
20世纪70年代，科学家开始从不同角度提出有关纳米科技的构想，1***4年，科学家唐尼古奇最早使用纳米技术一词描述精密机械加工。1982年，科学家发明研究纳米的重要工具——扫描隧道显微镜，揭示了一个可见的原子、分子世界，对纳米科技发展产生了积极的促进作用。
传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？
让你失望了，上海微电孑没有研制出11纳米的光刻机。但是，再告诉你一个好消息，明年，上海微电子将研制出28纳米的光刻机，经过多次光刻后，能精确到11纳米。再告诉你个更大的好消息，我们国家的实验室里巳经研制成功了9纳米光刻机，虽然，工厂化量产还得多年以后。相信.，上海微电子所一定会不辱使命，在光刻机领域大展伸手，舞出明天中国光刻机的一片希望之所。
国产光刻机如果能到11nm的程度，那么华为也不会陷入到“无芯可用”的尴尬境地。准确的说应该是研发微电子研发的28nm光刻机将在2021年正式落地，这款光刻机有生产11nm芯片的能力。
从光源上细分现在世界上光刻机的发展前后已经经历了五代，第四代光刻机使用的是波长为139纳米的Arf光源的光刻机，其制程工艺节点为130纳米-65纳米，45纳米-22纳米。如果从这点上看上海微电子研发的28nm的光刻机是一个标准的四代光刻机。
世界最先进的第五代光刻机使用的是波长为13.5纳米的EUV光源的极紫外光刻机，其制程节点为22纳米-7纳米。这个领域的产品基本上全被ASML把持着，无人能撼动其王者的地位。
虽然上海微电子和ASML差距极大，但是它在低端光刻机市场依旧表现不俗，并在国内占据了80%的市场份额。
从目前曝光的信息上看，上海微电子研发的28nm的光刻机有生产11nm芯片的能力，这对华为来说绝对是一个天大的好消息。
目前台积电在加班加点的赶制华为最新麒麟芯片的订单，按照华为的公司战略，一般***购的芯片足够支撑公司两年使用。虽然最新的芯片***用了5nm的工艺，但是在11nm工艺的加工下依旧能用，当然不可避免的后果就是芯片体积变大、性能下降以及发热量提高，但是这比被完全被美国卡住脖子强太多了。
况且只要能熬过这几年，随着国家***对光刻机领域的倾斜以及中美关系的改善，芯片问题也很可能会迎来新转机。
其实这点很多科技领域的专家都做过预测，追赶是肯定追赶不上ASML的脚步了，但是达到ASML现在的水平还是有可能的。当然专家们给了一个不太乐观的预测，那就是达到ASML现在的水平至少要10~20年左右。
ASML其实类似于一个组装工厂，它设计出来最新的光刻机后需要从全世界***购最先进的零件，进而拼装组成一***整的光刻机。现在这些零件商把持着所有零件的销售，即使我们拿到了ASML的图纸，没有零件依旧白搭。
这意味着我们需要在光刻机的每个领域都要取得突破，除非得到国家的鼎力支持，否则光靠一个上海微电子还是过于势单力薄了。
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